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高低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～180℃），MGD20-20實(shí)現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測(cè)試，為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

高溫恒溫槽用于產(chǎn)品性能分析測(cè)試、計(jì)量檢定、化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制、普通溫度計(jì)及其它溫度測(cè)量?jī)x表制造中的定標(biāo)用途。

高低溫恒溫循環(huán)槽（-20℃～180℃），MDG20-30實(shí)現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測(cè)試，為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

低溫小型恒溫水槽（-5℃～90℃）MD20-30I提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃。

高低溫恒溫槽MGD40-12為用戶(hù)提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場(chǎng)源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源， 應(yīng)用于-40℃～180℃（高至溫度195℃）石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過(guò)程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，對(duì)反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用